Aktivt karbonadsorpsjon kan deles inn i fysisk adsorpsjon og kjemisk adsorpsjon i henhold til forskjellige prinsipper. Fysisk adsorpsjon er forårsaket av van der Waals-kraften mellom molekyler. Siden molekylene med fast overflate er forskjellige fra de indre molekylene, er det et gjenværende overflatefri kraftfelt. Når gassmolekylene beveger seg i nærheten av den faste overflaten, vil de bli tiltrukket og holde seg på den faste overflaten, mens aktivt karbon er et porøst materiale, og den komplekse porestrukturen øker overflatearealet til det faste stoffet og overflaten. energi forbedres betydelig, slik at materialets adsorpsjonskapasitet blir bemerkelsesverdig forbedret. Kjemisk adsorpsjon er forårsaket av kjemiske bindingskrefter. Når en kjemisk reaksjon skjer på en fast overflate, endrer den kjemiske reaksjonen elektronisk bane-modus for det adsorberte molekylet, så det er vanskelig å gjenopprette til den opprinnelige arten, og det er en irreversibel prosess.
Metode for avsvovling av aktiv røksgas er en samtidig prosess med fysisk adsorpsjon og kjemisk adsorpsjon. Det er en serie kjemiske reaksjoner på overflaten av aktivert karbon. På grunn av kompleksiteten på overflaten av aktivert karbon, er det imidlertid mange typer prinsipper for avsvovling av aktivert karbon, inkludert to hovedtyper. Man tror at aktivert karbon kan fjerne SO 2 i nærvær av O 2 og en liten mengde vanndamp. Den andre er ionebyttingsadsorpsjonsprinsippet og elektrolagsadsorpsjonsprinsippet.
Hangzhou Nature Technology Co., Ltd.
Legg til: A-1417, Tong Ren Jing Hua Mansion, 616 Gudun Road, Hangzhou, Kina
Tlf: + 86-571-87672821 / 87672306
Faks: + 86-571-88834706
Mobil: + 86-13705716747
E-post: sales@actechintl.com
